DE | en

Vakuum-Druck-Gießanlage VTC 100 V / Ti

Vakuum-Druck-Gießanlage VTC 100 V / Ti Platin-Gießanlage, Stahl-Gießanlage

Vakuum-Druck-Gießanlage VTC 100 V / Ti im Überblick

Spezifikationen herunterladen [PDF]

Details zu Vakuum-Druck-Gießanlage VTC 100 V / Ti

Die Vakuum-Druck-Gießanlage VTC 100 V / Ti ist speziell für das Gießen von kleinen Metallmengen bzw. kleinen Teilen geeignet. Sie wird häufig in Forschung und Entwicklung eingesetzt.

Spezifikationen Vakuum-Druck-Gießanlage VTC 100 V / Ti

Leistung
Leistung max. / el. Anschluss12 kW 3x400 V
Temperatur max.2100° C
Kapazität
Volumen Grafit-Tiegel25 ccm - 220 g Cu
Volumen Keramik-Tiegel30 ccm - 600 g Pt / 250 g Stahl
für Küvettengrößeø 125 mm / 220 mm H
Bedienung und Kontrolle
Vibrationstechnologie++ sweep mode
Kippautomatik mit Motorantrieb++
automatisches Anpressen der Küvette++
Gießprogramme100
Temperaturmessung mittels Pyrometer++
TemperaturmessungThermoelement bis 1.300° C
optisches Pyrometer bis 2.000° C
Qualitätssicherung
RS 232, Diagnosesystem++
Datendrucker++
GSM-Modem für Fernwartung++
Zubehör
Pyrometer mit Videoausgangoo
= serienmäßig | = nicht verfügbar | = optional

Die auf dieser Seite veröffentlichten Maschinenbeschreibungen und technischen Daten erheben keinen Anspruch auf Vollständigkeit. Sie können sich im Zuge der Weiterentwicklung ändern und sind deshalb keine Vertragsgrundlage.

Produkte, die Sie auch interessieren könnten