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Vakuum-Druck-Gießanlage VTC 200 V / Ti

Vakuum-Druck-Gießanlage VTC 200 V / Ti Platin-Gießanlage, Stahl-Gießanlage

Vakuum-Druck-Gießanlage VTC 200 V / Ti im Überblick

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Details zu Vakuum-Druck-Gießanlage VTC 200 V / Ti

Die Vakuum-Druck-Gießanlage VTC 200 V / Ti bietet wesentlich mehr Tiegelvolumen als die VTC 100 V: 145 ccm beim Grafittiegel entsprechen 1.2 kg Cu, 180 ccm beim Keramiktiegel entsprechen 2.5 kg Platin bzw. 1 kg Stahl.

Spezifikationen Vakuum-Druck-Gießanlage VTC 200 V / Ti

Leistung
Leistung max. / el. Anschluss15 kW 3x400 V
Temperatur max.2100° C
Kapazität
Volumen Grafit-Tiegel145 ccm - 1,2 kg Cu
Volumen Keramik-Tiegel180 ccm - 2,5 kg Pt / 1 kg Stahl
für Küvettengrößeø 125 mm / 220 mm H
Bedienung und Kontrolle
Vibrationstechnologie++ sweep mode
Kippautomatik mit Motorantrieb++
automatisches Anpressen der Küvette++
Gießprogramme100
Temperaturmessung mittels Pyrometer++
TemperaturmessungThermoelement bis 1.300° C
optisches Pyrometer bis 2.000° C
Qualitätssicherung
RS 232, Diagnosesystem++
Datendrucker++
GSM-Modem für Fernwartung++
Zubehör
Pyrometer mit Videoausgangoo
= serienmäßig | = nicht verfügbar | = optional

Die auf dieser Seite veröffentlichten Maschinenbeschreibungen und technischen Daten erheben keinen Anspruch auf Vollständigkeit. Sie können sich im Zuge der Weiterentwicklung ändern und sind deshalb keine Vertragsgrundlage.

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